ASML impulsa la actualización de las máquinas de litografía de próxima generación, apuntando al mercado de chips para grandes centros de datos

ASML declaró que planea colaborar con sus principales clientes para desarrollar nuevas soluciones capaces de producir equipos avanzados de fabricación de chips, con el fin de satisfacer la demanda de chips para grandes centros de datos diseñados por empresas como NVIDIA. Actualmente, las máquinas de litografía de ultravioleta extremo (EUV) producidas por ASML, que son ampliamente utilizadas, pueden fabricar chips con un área máxima de aproximadamente 800 milímetros cuadrados. La máquina de litografía EUV de "alta apertura numérica" de próxima generación que ASML está a punto de lanzar podrá producir chips más finos. Sin embargo, debido al uso de tamaños de máscara más pequeños, actualmente está limitada en el área de chips que puede fabricar. ASML planea mostrar una línea de producción piloto que utilice tamaños de máscara más grandes para 2031 y tiene como objetivo permitir que esta nueva tecnología se produzca en masa para 2033.